Эксперт

Климов Александр Сергеевич
доктор технических наук, доцент, профессор кафедры физики ТУСУРа

ПРОФЕССИОНАЛЬНЫЕ И НАУЧНЫЕ ИНТЕРЕСЫ

Плазменная эмиссионная электроника, плазменные и ионно-пучковые технологии, энергоэффективность, энергосбережение 

ПРЕПОДАВАЕМЫЕ ДИСЦИПЛИНЫ

Физика 

НАУЧНЫЕ ПУБЛИКАЦИИ

148 публикаций (РИНЦ)

Монографии: 

1. Применение форвакуумных плазменных источников электронов для обработки диэлектриков / Климов А.С., Медовник А.В., Юшков Ю.Г., Тюньков А.В., Зенин А.А., Казаков А.В., Золотухин Д.Б. – Томск: Изд-во Томск. гос. ун-та систем упр. и радиоэлектроники, 2017. – 186 с. ISBN 978-5-86889-773-3. 

Результаты интеллектуальной деятельности: 

1. Патент РФ на полезную модель № 178158 от 26.03.2018. Устройство для электронно-лучевой резки хрупких листовых неметаллических материалов / Бурдовицин В.А., Зенин А.А., Климов А.С., Окс Е.М. 

2. Патент РФ на изобретение№ 2627796 от 11.08.2017. Способ послойного электронно-лучевого спекания изделий из керамического порошка / Бакеев И.Ю., Бурачевский Ю.А., Бурдовицин В.А., Зенин А.А. 

3. Патент РФ на полезную модель № 172351 от 05.07.2017. Устройство для электронно-лучевого осаждения оксидных покрытий / Бурдовицин В.А., Зенин А.А., Климов А.С., Окс Е.М. 

4. Патент РФ №159299. Приспособление для размещения спекаемого компакта / Климов А. С., Зенин А. А., Окс Е. М. опубл. 10.02.2016, Бюл. № 4. 

5. Патент РФ №156057. Форвакуумный плазменный электронный источник ленточного пучка / Климов А.С., Бурдовицин В.А.,Зенин А.А., Окс Е.М. опубл. 27.10.2015 Бюл. № 30. 

6. Патент РФ №158153. Приспособление для размещения спекаемых компактов / Климов А.С., Зенин А.А., Окс Е.М. опубл. 20.12.2015, Бюл. № 35. 

Публикации в ведущих рецензируемых научных изданиях: 

1. Double-coil magnetic focusing of the electron beam generated by a plasma-cathode electron source / Bakeev, I. Yu.; Klimov, A. S.; Oks, E. M. // REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2019, 90(2) 023302 

2. On the possibility of the electron-beam welding of quartz glasses by a forevacuum plasma electron source / Zenin, A. A., Klimov, A. S., & Oks, E. M. // Ceramics International. 2018, 45(4) 4798-4801 

3. Specifics of the focused electron beam transport in the forevacuum range of pressure / Klimov, A. S.; Zenin, A. A.; Oks, E. M. // PHYSICS OF PLASMAS, 2018 Том: 25 Выпуск: 11 113103 

4. Generation of high power density electron beams by a forevacuum-pressure plasma-cathode electron source / Bakeev I. Yu., Klimov A. S., Oks E. M., Zenin A. A // Plasma Sources Sci. Technol. 27 (2018) 075002 (6pp) 

5. Generation of ribbon electron beams by fore-vacuum plasma sources based on the discharge with an extended hollow cathode / Klimov A.S., Oks E.M., Zenin A.A. // Russian Physics Journal. 2018. V. 60. № 9. p. 1501-1508. 

6. Изменение электрофизических параметров Mn–Zn-ферритов при облучении электронным пучком в форвакуумной области давлений / Каранский В.В., Климов А.С. // Прикладная физика. – 2017. – № 6. – с. 72-76. 

7.О возможности прецизионной электронно-лучевой обработки протяженных диэлектрических изделий форвакуумным плазменным источником электронов / Бакеев И. Ю., Зенин А. А., Климов А. С., Окс Е. М. // Прикладная физика, 2017, №3, с.26-30. 

8. Параметры пучковой плазмы, формируемой форвакуумным плазменным источником ленточного электронного пучка в системе транспортировки без магнитного поля / А.С. Климов, М.И. Ломаев, Е.М. Окс, А.П. Андрейчик // Журнал технической физики. – 2017. – Т. 87. – Вып. 2. – С. 192-196. doi: 10.21883/JTF.2017.02.44124.1825, IF=0,57. http://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/44124 

9. Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений / А. А. Зенин, И.Ю. Бакеев, Ю.А. Бурачевский, А.С. Климов, Е.М. Окс // Письма в ЖТФ. – 2016. – Т. 42, № 13. – С. 104–110. http://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/43406 

10. Особенности электронно-лучевого спекания в форвакууме керамических материалов на основе карбида кремния с оксидными добавками / Э.С. Двилис, В.А. Бурдовицин, А.О. Хасанов, Е.М. Окс, А.С. Климов, А.А. Зенин, О.Л. Хасанов // Фундаментальные исследования. – 2016. – № 10-2. – С. 270-279. doi:10.17513/fr.40844, IF=0.512, http://www.fundamental-research.ru/ru/article/view?id=40844

11. Электронно-лучевое испарение керамики в форвакуумном диапазоне давлений / А. С. Климов, А. А. Зенин, Е. М. Окс, М. В. Шандриков, Ю. Г. Юшков // Прикладная физика. – 2016. – № 3. – С. 40–44. http://applphys.orion-ir.ru/appl-16/16-3/PF-16-3-40.pdf 

12. Тюньков, А. В. Мониторинг масс-зарядового состава пучковой плазмы модернизированным квадрупольным анализатором в форвакуумной области давлений / А. В. Тюньков, Ю. Г. Юшков, А. С. Климов // Прикладная физика. – 2016. – № 1. – С. 96–99. http://applphys.orion-ir.ru/appl-16/16-1/PF-16-1-96.pdf 

13. Особенности зарядовой нейтрализации карбида кремния при спекании электронным пучком в форвакуумной области давлений / А. С. Климов, В. А. Бурдовицин , А. А.Зенин , Е. М. Окс , О. Л. Хасанов , Э. С. Двилис, А. О. Хасанов // Письма в ЖТФ. – 2015. – Т. 41, № 15. – С. 69–74. http://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/43711 

14. Формирование ленточного электронного пучка форвакуумным плазменным источником электронов / А. С. Климов, В. А. Бурдовицин, А. А. Гришков, Е. М. Окс, А. А. Зенин, Ю. Г. Юшков // Прикладная физика. – 2015. – № 1. – С. 35–39. http://applphys.orion-ir.ru/appl-15/15-1/PF-15-1-35.pdf 

УЧАСТИЕ В НАУЧНЫХ ПРОЕКТАХ, ГРАНТАХ

Руководитель: 

РФФИ 15-38-20264_мол-а-вед, «Физические основы электронно-лучевого метода нанесения керамических покрытий в форвакууме» (2015-2016)

Государственное задание № 3.9605.2017/БЧ «Особенности эмиссии электронов из плазмы и формирования электронных пучков в области повышенных давлений форвакуумного диапазона для пучково-плазменной модификации материалов» (2017-2019)

Исполнитель: 

РФФИ №14-08-00047 «Формирование низкоэнергетичных широкоапертурных электронных пучков в системах с плазменными катодами при повышенных давлениях», 2014-2016

РФФИ №14-08-00775 «Фундаментальные основы электронно-лучевого синтеза композитных керамических материалов на основе карбида кремния», 2014-2016

РФФИ №16-08-00183 "Свойства и применение низкотемпературной плазмы, создаваемой электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений", 2016-2018

РФФИ №17-08-00239 «Генерация форвакуумным плазменным источником электронов сфокусированных непрерывных и импульсных электронных пучков для прецизионной обработки диэлектрических материалов», 2017-2019

Ведомственная программа №3.49.2014/К «Создание нового поколения плазменных источников электронов, функционирующих в области повышенных давлений среднего вакуума, для электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов», 2014-2016

Грант президента РФ для поддержки ведущих научных школ НШ-6700.2016.8 «Электронно-лучевые и ионно-пучковые методы модификации диэлектрических материалов: полимеров и керамик», 2016-2017

НАГРАДЫ

Дважды лауреат стипендии Президента Российской Федерации молодым учёным и аспирантам, осуществляющим перспективные научные исследования и разработки по приоритетным направлениям модернизации российской экономики 2012-2014, 2015-2017

Дважды лауреат премии Томской области в сфере образования, науки, здравоохранения и культуры – 2010, 2016

Лауреат премии Законодательной Думы Томской области в номинации «Технические науки» 2015 года

ИНТЕРВЬЮ, ВИДЕО 

https://tusur.ru/ru/novosti-i-meropriyatiya/video-bank/prosmotr/-/video-youtube-pobeditel-prezidents...